半導體集成電路(IC)制造是高科技產業(yè)的核心，涉及光刻、刻蝕、沉積等多道工藝，均在高度潔凈的環(huán)境中進行。設備如光刻機和刻蝕機依賴超純氣體(如氮氣、氬氣)用于冷卻、吹掃或反應氣體供應，以確保電路圖案的精確性和可靠性。任何氣體中的微粒污染都可能導致電路短路、缺陷或良率下降，因此氣體純度至關重要。半導體集成電路設備通常集成在閥歧管箱或氣柜中，要求氣體輸送系統(tǒng)緊湊、高效。

為什么使用過濾器

在半導體集成電路制造中，氣體管路輸送的氣體即使經過初步凈化，仍可能攜帶亞微米級顆粒、水分或油霧。這些污染物會沉積在晶圓表面，引起器件故障。例如，在光刻環(huán)節(jié)，氣體中的微粒可能遮擋紫外光，導致圖案失真;在刻蝕過程中，污染物可能干擾化學反應，造成過刻蝕或欠刻蝕。使用過濾器能有效攔截0.003μm以上的顆粒，將氣體雜質含量降至5ppb以下，保障集成電路的微型化和高集成度需求。文檔指出，過濾器是超高純氣體系統(tǒng)的首選，可避免供應鏈困擾和技術難題。

過濾器介紹

恒歌HENGKO的SF系列IGS面板專用過濾器專為半導體集成電路設備設計，兼容C型和W型密封規(guī)格，實現(xiàn)0.003μm級高效顆粒過濾。該過濾器采用全316L不銹鋼結構，支持高達100slpm的大流量，適用于集成氣體輸送與控制系統(tǒng)。其設計符合SEMI標準，便于模塊化安裝，如用于閥歧管箱或氣柜的在線過濾。SF系列在潔凈室環(huán)境內制造、測試和包裝，確保9-LRV清潔度，助力客戶提高產品競爭力。

過濾器特點

●?結構材料：整體316L不銹鋼電解拋光外殼，耐高溫、耐高壓、耐腐蝕，工作溫度范圍-28°C至+482°C，工作壓力可達414bar。

●?過濾性能：超高顆粒攔截效率，出口氣體各雜質含量小于5ppb，通過100%完整性測試和氦氣檢漏測試。

●?設計優(yōu)勢：小型化緊湊結構，節(jié)省空間;采用機械密封，與介質無焊接，安裝檢修便捷;優(yōu)異的氣體置換和解吸特性，減少壓損。

●?定制服務：可提供OEM定制，按需求設計過濾精度和尺寸，如適配不同氣流速率。

●?技術參數(shù)顯示，其流量壓差曲線平滑，確保穩(wěn)定運行。外形尺寸多樣，支持靈活集成。

產品應用

SF系列廣泛應用于半導體集成電路制造環(huán)節(jié)，如光刻設備的氣體吹掃系統(tǒng)、刻蝕設備的反應氣體供應線，以及晶圓廠的氣體分配歧管。在LED、光伏和MEMS設備中，它用于保護敏感組件，延長設備壽命。案例包括集成電路生產線的高純氮氣過濾，有效預防微粒污染，提高良率至99.99%以上。文檔指出，該過濾器是半導體行業(yè)實現(xiàn)超高純氣體的關鍵，助力科技未來發(fā)展。