恒歌納米級(jí)DF系列擴(kuò)散器專用過(guò)濾器、專為半導(dǎo)體制程中真空腔體快速放氣應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)。結(jié)合了擴(kuò)散器的氣體流動(dòng)特性和高效過(guò)濾器的顆粒攔截特性、擴(kuò)散器專用過(guò)濾器過(guò)濾精度可達(dá)0.003um。獨(dú)特的全316L不銹鋼結(jié)構(gòu)、不僅確保高效過(guò)濾、更巧妙的規(guī)避了湍流產(chǎn)生、對(duì)工藝室環(huán)境造成影響、有效防止氣流吹起顆?；蛘叽灯鸸杵？啥ㄖ苹O(shè)計(jì)、靈活適應(yīng)各類安裝空間。

產(chǎn)品特點(diǎn)

● ?不銹鋼粉末燒結(jié)介質(zhì)、可快速排氣

● ?整體316L不銹鋼結(jié)構(gòu)

● ?減少工藝腔體排氣時(shí)的湍流

● ?適用于多種工藝氣體

● ?潔凈室環(huán)境內(nèi)制造、測(cè)試、包裝

● ?100%完整性測(cè)試通過(guò)

● ?100%氨氣泄露檢測(cè)通過(guò)、耐高溫、耐高壓、耐腐蝕

● ?防止微?；烊?、幫助提高產(chǎn)品合格率可根據(jù)安裝空間進(jìn)行設(shè)計(jì)

應(yīng)用領(lǐng)域

DF系列擴(kuò)散器專用過(guò)濾器廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的各種工藝環(huán)節(jié)，如光刻、蝕刻、離子注入等。它能夠有效去除氣體中的雜質(zhì)，確保氣體的高純度，從而提高芯片的良品率和生產(chǎn)效率。此外，它還適用于其他需要高純度氣體的工業(yè)領(lǐng)域，如電子制造、化工等。

在半導(dǎo)體制程中，DF 系列擴(kuò)散器應(yīng)用氣體過(guò)濾器主要有以下原因：

● ?防止顆粒污染：半導(dǎo)體制造對(duì)環(huán)境潔凈度要求極高，哪怕微小顆粒也可能導(dǎo)致芯片短路、斷路或其他性能缺陷。氣體過(guò)濾器能攔截 0.003um 及以上的顆粒，確保進(jìn)入真空腔體的氣體純凈，防止顆粒在工藝過(guò)程中附著在硅片或其他關(guān)鍵部件上，提高產(chǎn)品合格率。

● ?避免氣體雜質(zhì)影響工藝：半導(dǎo)體制程中的光刻、蝕刻等工藝對(duì)氣體純度要求嚴(yán)格。過(guò)濾器可去除氣體中的雜質(zhì)，如水分、油分、金屬離子等，避免這些雜質(zhì)與工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，或在高溫、高壓等條件下對(duì)硅片表面造成腐蝕、污染，保證工藝的一致性和穩(wěn)定性。

● ?保護(hù)設(shè)備：潔凈的氣體可減少對(duì)擴(kuò)散器及其他相關(guān)設(shè)備內(nèi)部組件的磨損和腐蝕，延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命，降低維護(hù)成本。如果氣體中的顆?；螂s質(zhì)進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部，可能會(huì)堵塞氣體通道、磨損密封件，影響設(shè)備的正常運(yùn)行。

● ?滿足工藝精度要求：隨著半導(dǎo)體器件尺寸不斷縮小，工藝精度要求越來(lái)越高。使用氣體過(guò)濾器能提供穩(wěn)定、純凈的氣體環(huán)境，滿足高精度工藝要求，確保半導(dǎo)體產(chǎn)品的性能和質(zhì)量達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。

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